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    熱搜產品： 原子層沉積、 ALD、 納米涂層、 納米三防、 納米鍍膜、 封裝涂層、
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    2022-04

    原子層沉積(ALD)系統用于氧化物和金屬薄膜沉積

    原子層沉積(ALD)系統用于氧化物和金屬薄膜沉積

    原子層沉積（ALD）是一種沉積原子級薄膜的技術，它是以一種連續脈沖的方式在樣品表面和反應前驅體材料之間發生化學反應。與傳統的等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）技術相比，沉積速率相對較慢，但是它可在高深寬比的溝槽和通孔結構上沉積均勻薄膜。另外，在原子層......
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    2022-04

    新一代涂層技術：PVD功能性硬涂層配合納米透明膜

    新一代涂層技術：PVD功能性硬涂層配合納米透明膜

    由于PVD涂層能提供更好的邊緣保持力，防止氧化和腐蝕，在切削過程中保持清晰，不會與骨骼、組織或體液發生反應，故而，越來越多都用于醫療器械，例如鋒利的手術器械、針頭、鉆頭、干擾器、各種裝置組件以及牙科應用的“磨損”部件。 PVD功能性硬涂層(如DLC，TI......
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    2022-04

    科普系列：選擇性原子層沉積技術

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    很多涉及原子層沉積技術（ALD）的人都知道，選擇性原子層沉積是當今熱議的話題。各類論文、研討會和博文層出不窮，詳盡地解釋了各種可以達到選擇性生長目的的新方法。從某種意義上說，選擇性ALD運用了長期困擾ALD使用者的效應，即由于ALD的化學反應特性，薄膜生......
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    2022-04

    什么是原子層沉積（ALD）？

    什么是原子層沉積（ALD）？

    原子層沉積（Atomic layer deposition)是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。 但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積......
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    2022-04

    ALD技術在未來半導體制造技術中的應用

    ALD技術在未來半導體制造技術中的應用

    由于低溫沉積、薄膜純度以及絕佳覆蓋率等固有優點，ALD（原子層淀積）技術早從21世紀初即開始應用于半導體加工制造。DRAM電容的高k介電質沉積率先采用此技術，但近來ALD在其它半導體工藝領域也已發展出愈來愈廣泛的應用。 高k閘極介電質及金屬閘極的ALD沉......
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